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      1.  

        態(tài)


        個產(chǎn)品,

        對待每一

        做到極致認(rèn)真

        每一個零件
        細(xì)

        每一組數(shù)據(jù)

        • 智能型HMDS真空系統(tǒng)(JS-HMDS90-AI)
        • 潔凈烘箱,百級無塵烘箱
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        堅膜烘箱,氮氣堅膜烘箱在芯片工藝中的用途
        來源: | 作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時間: 2023-09-14 | 914 次瀏覽 | 分享到:
        堅膜烘箱的作用是在一定的溫度下,對顯影后的襯底進(jìn)行烘焙。這將使光刻膠的表面在表面張力的作用下而圓滑化,并使光刻膠層中的缺陷因光刻膠表面的圓滑化而減少,并可借此修正光刻膠圖形的邊緣輪廓。

        堅膜烘箱,氮氣堅膜烘箱的用途

               堅膜烘箱的作用是在一定的溫度下,對顯影后的襯底進(jìn)行烘焙。 其的主要作用是除去光刻膠中剩余的溶劑,增強光刻膠對硅片表面的附著力,同時提高光刻膠在刻蝕和離子注人過程中的抗蝕性和保護(hù)能力。這將使光刻膠的表面在表面張力的作用下而圓滑化,并使光刻膠層中的缺陷因光刻膠表面的圓滑化而減少,并可借此修正光刻膠圖形的邊緣輪廓。

        堅膜烘箱,氮氣堅膜烘箱技術(shù)性能:

               通過堅膜,光刻膠的附著力會得到提高,這是由于除掉了光刻膠中的溶劑,同時也是熱融效應(yīng)作用的結(jié)果,因為熱融效應(yīng)可以使光刻膠與硅片之間的接觸面積達(dá)到最大。較高的堅膜溫度可使堅膜后光刻膠中的溶劑含量更少,但增加了去膠時的困難。     

        溫度范圍:RT~250℃;
        均勻度:±2%℃;    

        溫度波動度:±0.5℃(空載)        
        溫控精度:±0.1℃;   

        潔凈度:Class100; 

        計時范圍:99H99M;   

        氣體氛圍:N2;

        內(nèi)部尺寸(mm):

        450×450×450

        500×500×550

        600×700×800(可定制)       


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