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      對(duì)

      態(tài)


      個(gè)產(chǎn)品,

      對(duì)待每一

      做到極致認(rèn)真

      每一個(gè)零件
      細(xì)

      每一組數(shù)據(jù)

      • 智能型HMDS真空系統(tǒng)(JS-HMDS90-AI)
      • 潔凈烘箱,百級(jí)無(wú)塵烘箱
      • 氮?dú)夂嫦?,精密充氮烘?/div>
      • LCP熱處理烘箱,LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>
      • 熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱,高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱
      • HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )
      • 智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱(PI烤箱)
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      堅(jiān)膜烘箱,氮?dú)鈭?jiān)膜烘箱在芯片工藝中的用途
      來(lái)源: | 作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時(shí)間: 2023-09-14 | 913 次瀏覽 | 分享到:
      堅(jiān)膜烘箱的作用是在一定的溫度下,對(duì)顯影后的襯底進(jìn)行烘焙。這將使光刻膠的表面在表面張力的作用下而圓滑化,并使光刻膠層中的缺陷因光刻膠表面的圓滑化而減少,并可借此修正光刻膠圖形的邊緣輪廓。

      堅(jiān)膜烘箱,氮?dú)鈭?jiān)膜烘箱的用途

             堅(jiān)膜烘箱的作用是在一定的溫度下,對(duì)顯影后的襯底進(jìn)行烘焙。 其的主要作用是除去光刻膠中剩余的溶劑,增強(qiáng)光刻膠對(duì)硅片表面的附著力,同時(shí)提高光刻膠在刻蝕和離子注人過(guò)程中的抗蝕性和保護(hù)能力。這將使光刻膠的表面在表面張力的作用下而圓滑化,并使光刻膠層中的缺陷因光刻膠表面的圓滑化而減少,并可借此修正光刻膠圖形的邊緣輪廓。

      堅(jiān)膜烘箱,氮?dú)鈭?jiān)膜烘箱技術(shù)性能:

             通過(guò)堅(jiān)膜,光刻膠的附著力會(huì)得到提高,這是由于除掉了光刻膠中的溶劑,同時(shí)也是熱融效應(yīng)作用的結(jié)果,因?yàn)闊崛谛?yīng)可以使光刻膠與硅片之間的接觸面積達(dá)到最大。較高的堅(jiān)膜溫度可使堅(jiān)膜后光刻膠中的溶劑含量更少,但增加了去膠時(shí)的困難。     

      溫度范圍:RT~250℃;
      均勻度:±2%℃;    

      溫度波動(dòng)度:±0.5℃(空載)        
      溫控精度:±0.1℃;   

      潔凈度:Class100; 

      計(jì)時(shí)范圍:99H99M;   

      氣體氛圍:N2;

      內(nèi)部尺寸(mm):

      450×450×450

      500×500×550

      600×700×800(可定制)       


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