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      對(duì)

      態(tài)

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      個(gè)產(chǎn)品,

      對(duì)待每一

      做到極致認(rèn)真

      每一個(gè)零件
      細(xì)

      每一組數(shù)據(jù)

      • 智能型HMDS真空系統(tǒng)(JS-HMDS90-AI)
      • 潔凈烘箱,百級(jí)無(wú)塵烘箱
      • 氮?dú)夂嫦洌艹涞嫦?/div>
      • LCP熱處理烘箱,LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>
      • 熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱,高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱
      • HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )
      • 智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱(PI烤箱)
      • 真空無(wú)氧固化爐,高溫?zé)o氧烘箱
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      氮?dú)夂嫦?,百?jí)潔凈烘箱在光刻軟烘烤工藝注意事項(xiàng)有哪些?
      來(lái)源: | 作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時(shí)間: 2023-10-07 | 971 次瀏覽 | 分享到:
      氮?dú)夂嫦?,百?jí)潔凈烘箱后涂覆烘烤工藝,也稱為軟烘烤或預(yù)烘烤,涉及在旋涂之后通過(guò)除去該過(guò)量溶劑來(lái)干燥光致抗蝕劑。

          光刻加工中涂布后,所得的抗蝕劑膜將包含20-40%重量的溶劑。后涂覆烘烤工藝,也稱為軟烘烤或預(yù)烘烤,涉及在旋涂之后通過(guò)除去該過(guò)量溶劑來(lái)干燥光致抗蝕劑。減少溶劑含量的主要原因是使抗蝕劑膜穩(wěn)定。

          在室溫下,光刻加工未烘烤的光致抗蝕劑膜將通過(guò)蒸發(fā)而損失溶劑,從而隨時(shí)間改變膜的性能。通過(guò)烘烤抗蝕劑,去除了大部分溶劑,并且該膜在室溫下變得穩(wěn)定。從光致抗蝕劑膜上去除溶劑有四個(gè)主要效果:(1)減小膜的厚度;(2)曝光后烘烤并改變顯影性能;(3)改善粘合性;(4)膜的粘性降低因此不易受到微粒污染的影響。

      氮?dú)夂嫦?,百?jí)潔凈烘箱用途:

          潔凈烘箱,百級(jí)無(wú)塵烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤;也適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門;也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。

      氮?dú)夂嫦洌偌?jí)潔凈烘箱技術(shù)參數(shù):

      無(wú)塵等級(jí):Class100;     

      溫度范圍:RT~200/450℃;      

      工作尺寸(mm):

      450×450×450

      500×500×500

      600×700×800(可定制)        

      氮?dú)夂嫦?,百?jí)潔凈烘箱可擴(kuò)展功能:

      氧濃度檢測(cè),無(wú)塵無(wú)氧烘箱

      真空無(wú)氧烘箱

      智能聯(lián)網(wǎng)功能,MES等工業(yè)自動(dòng)化軟件

      掃碼槍,掃碼溯源,一鍵讀取

      自動(dòng)門控,上位機(jī)程控,機(jī)械手搬運(yùn)產(chǎn)品


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