一、清潔烤箱，無塵烤箱簡述  

無塵烤箱用于IC生產過程中極為重要的光刻工藝中預烘烤（軟烘），脫水烘烤，涂膠后的堅膜烘烤（硬烘）；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、OLED、醫(yī)藥、實驗室等生產及科研部門。

二、清潔烤箱，無塵烤箱原理
       無塵烤箱配備HEPA過濾器，以保持爐腔無顆粒。  HEPA過濾器（高效微粒捕獲）現在是電子和平板顯示器潔凈室組裝的主要過濾系統(tǒng)，或任何需要最大程度減少或去除亞微米微粒的應用。 HEPA過濾器具有隨機定位的微玻璃纖維的深床，其中與平均纖維直徑和自由路徑橫截面的有效孔相比，總床深度（過濾器的厚度）非常大。

    通過HEPA過濾器的氣體必須流過的通道不是直的，而是非常曲折的。隨著顆粒對纖維的影響并粘附在纖維上，通道變得更小并且過濾器的效率提高。無塵烤箱以及LCD行業(yè)的特殊輸送爐中使用這些過濾器。為了保護過濾器不會在烤箱中過熱，實施了用于過濾器的特殊保護系統(tǒng)。 HEPA過濾器在正常條件下保持其在烤箱中的效率一至數年。 HEPA不需要任何清潔或維護來保持這種效率。無塵烤箱用于半導體行業(yè)。

三、清潔烤箱，無塵烤箱特點   

1、用于烘烤非光敏聚酰亞胺（PI）的清潔烤箱，在干凈的環(huán)境中處理集成的HEPA過濾器。溫度高達350°C 溫度。 氧氣可以保持<20ppm。可編程控制器。內部尺寸可自定義。  

2、可以提供與PC的數據耦合，這允許長期數據存儲以及統(tǒng)計過程控制SPC，配方管理和過程可視化。

3、 強制送風循環(huán)方式，雙風道循環(huán)結構，溫度場分布均勻，智能P.I.D溫控系統(tǒng)，從而得到高精度溫度控制。

4、可實現智能化生產要求。SECS / GEM是用于設備到主機數據通信的半導體設備接口協(xié)議。在自動化工廠中，接口可以啟動和停止設備處理，收集測量數據，更改變量并為產品選擇配方。 
四、無塵烤箱，智能無塵烤箱基本參數
1、 溫度范圍：RT-200/450℃;     
2、 溫度均勻度：±2℃;    
3、 溫度波動度：±0.5℃；        
4、 溫控精度：±0.1℃;
5、 潔凈度：100/10級的潔凈熱處理HEPA過濾器與前出風水平層對流循環(huán)方式實現并保證箱內的溫度分布的均勻性與潔凈度。