實驗室HMDS專用烘箱  小型HMDS處理烤箱的重要作用

   晶片產(chǎn)品的表面通常是親水的，因為從環(huán)境濕度中吸附了一層水。為了使光刻膠具有適當?shù)母街?，需要使表面更具疏水性，以更好地與光刻膠的化學(xué)性質(zhì)相匹配。

1. 解決光刻膠附著力不足問題

產(chǎn)品表面的自然氧化層：暴露在空氣中的硅片會形成約 1-2nm 厚的 SiO?層，其表面富含羥基（-OH），具有強親水性。而光刻膠（尤其是化學(xué)增幅型光刻膠）多為疏水性樹脂，直接旋涂時會因表面能不匹配導(dǎo)致 “去濕”（dewetting）現(xiàn)象，形成針孔或島狀缺陷。

HMDS 的改善效果：通過表面硅烷化處理，使硅片表面接觸角從～40° 提升至65°-80°（接近光刻膠的接觸角），確保光刻膠均勻鋪展并形成連續(xù)膜層。實驗表明，使用 HMDS 后，光刻膠的附著力可提高 3-5 倍，在后續(xù)顯影、刻蝕過程中不易脫落

2. 增強光刻圖形的完整性

細線條工藝中的關(guān)鍵作用：在 28nm 以下工藝節(jié)點，光刻膠線條寬度減小至亞微米級，邊緣應(yīng)力集中效應(yīng)加劇，若無 HMDS 處理，顯影時極易發(fā)生線條坍塌（Line Collapse）。例如，在 193nm 浸沒式光刻中，使用 HMDS 可使 50nm 線寬的抗坍塌能力提升 20%。

深孔 / 溝槽結(jié)構(gòu)的填充優(yōu)化：對于 3D NAND 等具有高深寬比（>20:1）結(jié)構(gòu)的器件，HMDS 可降低光刻膠在孔底的接觸角，避免填充空洞（Void）形成，提高圖形轉(zhuǎn)移質(zhì)量。

實驗室HMDS專用烘箱  小型HMDS處理烤箱的主要功能

HMDS 涂覆：采用蒸汽涂覆（Vapor Prime）將 HMDS 均勻覆蓋在產(chǎn)品表面；

烘烤固化：通常在 100-150°C 下烘烤 60-500 秒，促進化學(xué)反應(yīng)完全進行。

容積:300×300×300可定制（mm）（2-12寸產(chǎn)品兼容）

材質(zhì)：外箱采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼制作，內(nèi)箱采用 316L 醫(yī)用級不銹鋼

溫度范圍：RT+20-200℃

真空度：≤1torr

自動化：彩色觸摸屏人機交互，一鍵運行

HMDS控制：可控制HMDS 藥液添加量

真空泵：無油渦旋真空泵

HMDS烤箱選配功能:

HMDS藥液泄漏報警提示功能

HMDS低液位報警提示功能

工藝數(shù)據(jù)記錄功能

程序鎖定保護等功能